कंपनी की खबर माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स और आईएसओ 4 मॉड्यूलर वातावरण की मांग

जैसे-जैसे माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स विनिर्माण 3 एनएम और 2 एनएम प्रक्रिया नोड्स की ओर आगे बढ़ता है, पर्यावरण प्रदूषण को नियंत्रित करने में उद्योग को अभूतपूर्व चुनौतियों का सामना करना पड़ता है।आईएसओ 4 क्लीनरूम वातावरण ∙ कणों की संख्या को केवल 10 तक सीमित करनाउत्पाद की उपज और विश्वसनीयता सुनिश्चित करने के लिए 0.1μm प्रति घन मीटर के 1000 कण महत्वपूर्ण हो गए हैं।यह मांग मॉड्यूलर क्लीनरूम समाधानों में नवाचार को आगे बढ़ा रही है जो अत्यधिक स्वच्छता को तेजी से प्रौद्योगिकी संक्रमण के लिए आवश्यक चपलता के साथ जोड़ती है।.

पारंपरिक स्थिर स्वच्छ कक्ष माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग के तेजी से विकास के साथ तालमेल रखने के लिए संघर्ष करते हैं। एक नई आईएसओ 4 सुविधा का निर्माण 18-24 महीने लग सकते हैं और $ 1 बिलियन से अधिक खर्च हो सकता है,प्रक्रिया आवश्यकताओं में परिवर्तन या पैमाने पर उत्पादन के लिए जल्दी से अनुकूलित करने के लिए मुश्किलमॉड्यूलर क्लीन रूम एक परिवर्तनकारी विकल्प प्रदान करते हैं, जिसमें प्रीफैब्रिकेटेड पॉड्स होते हैं जिन्हें 3-6 महीनों में तैनात किया जा सकता है जबकि समान सख्त पर्यावरण नियंत्रण बनाए रखा जाता है।

ये मॉड्यूलर समाधान माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स विनिर्माण के लिए अनुकूलित उन्नत प्रदूषण नियंत्रण प्रौद्योगिकियों को एकीकृत करते हैं। प्रमुख विशेषताओं में शामिल हैंः

• स्तरित निस्पंदन प्रणाली: हेपा/यूएलपीए फिल्टर सेमीकंडक्टर वेफर्स को बिगाड़ने वाले हवा में मौजूद रसायनों को खत्म करने के लिए आणविक संदूषण (एएमसी) हटाने की प्रणाली के साथ संयुक्त
• परिशुद्धता पर्यावरण नियंत्रण: ±0.1°C तापमान स्थिरता और ±1% आर्द्रता नियंत्रण वेफर के विकृति को रोकने और सुसंगत लिथोग्राफी परिणाम सुनिश्चित करने के लिए
• मॉड्यूलर स्केलेबिलिटी: नए प्रक्रिया औजारों को समायोजित करने या उत्पादन क्षमता बढ़ाने के लिए पॉड्स को आसानी से फिर से कॉन्फ़िगर या विस्तारित किया जा सकता है
• वास्तविक समय की निगरानी: आईओटी-सक्षम सेंसर कणों की संख्या, तापमान, आर्द्रता और गैस सांद्रता पर निरंतर डेटा प्रदान करते हैं, जिसमें एआई-संचालित विश्लेषण संभावित संदूषण घटनाओं की भविष्यवाणी करते हैं